Espejo omnidireccional blanco y negro fabricado con multicapas de silicio poroso para la region visible

 En este trabajo se presenta el diseño y fabricación de un espejo omnidireccional para el rango visible, basado en una estructura dieléctrica multicapa 1D de silicio poroso. El perfil del índice de refracción consiste en una estructura tipo Bragg de periodo variable, en donde el espesor físico de cada capa es incrementado por medio de una función envolvente f(x)=Cx^k. El gap fotónico omnidireccional fue medido experimentalmente desde 396 hasta 805 nm, con mas del 95% de reflectividad, para los modos electromagnéticos TE y TM, entre 8 y 68 grados de incidencia. Las simulaciones basadas en el método de matriz de transferencia, junto con una secuencia fotográfica de la muestra confirmaron cualitativamente el gap omnidireccional para ángulos de incidencia mayores. La estructura fabricada mostró un incremento del gap omnidireccional de 19 veces a comparado con la última estructura dielétrica omnidireccional de silicio poroso reportada. El espejo fabricado tiene potenciales aplicaciones en la industria de concentradores y celdas solares, como guia de ondas en telecomunicaciones y espejos para laseres en el visible, con un bajo costo y una fácil y rápida fabricación.

A. David Ariza-Flores, david1cool@gmail.com, UAEM, Facultad de Ciencias; Luis Manuel Gaggero-Sager, lgaggero@yahoo.com, UAEM, Facultad de Ciencias; Vivechana Agarwal, vagarwal@uaem.mx, UAEM, CIICAp

Participante: A. David Ariza Flores

Institución: FC - UAEM

Lugar: Seminario de ESTUDIANTES Auditorio-ICF

Fecha y hora: Este evento terminó el Jueves, 25 de Octubre de 2012